“神农光刻胶Sp-28”配方中，那几种由林轩“点拨”、
并经“伏羲”AI优化筛选出来的、具有独特分子结构的含氟聚合物单体和高效光致产酸剂（pAG），在实验室小批量合成时，
尚可通过多级精馏、柱层析等高成本、低效率的手段来保证其超高纯度。
但一旦要进行公斤级、百公斤级甚至吨级的工业化放大生产，这些实验室方法便完全不敷使用！
而国际上能够稳定供应这种级别、这种纯度核心化工单体的供应商，几乎全部集中在东瀛和m国的少数几家寡头手中！
在启明芯高调宣布光刻胶取得实验室突破之后，这些寡头们，早已在m国政府的暗示和同行的默契之下，
对启明芯和华夏大陆，关上了最后一扇友好合作的大门！
他们要么直接拒绝供货，要么开出令人咋舌的天价，要么就以各种技术升级、“能不足为由，无限期拖延！
“想用我们的米，来煮你们的饭？做梦！”
这是东瀛某化工巨头一位高管在私下里对媒体放出的狂言。
面对这种赤裸裸的釜底抽薪，顾维钧和他的团队一度也感到了巨大的压力。
然而，林轩对此，却早有准备！“星尘补天计划，从一开始，就不是单点突破，而是全链布局！”
林轩在一次紧急召开的光刻胶产业链自主化推进会上，对着SIA部门负责人理查德·刘和负责新材料研发的顾维钧，以及几位从华夏科学院化学所请来的顶级化学工程专家，
以不容置疑的语气下达了指令：
“立刻启动‘星尘计划’内部代号为‘夸父逐日·精卫填海’的专项行动！”
“SIA部门，利用我们之前在全球范围内秘密投资和控股的那些
欧罗巴、东瀛非主流的特种化学品公司和研究机构，
不惜一切代价，也要为我们打通几条关键光刻胶单体和pAG前驱体的
海外秘密补给线！哪怕成本高一点，也在所不惜！这是应急之策！”
“同时，顾工，我需要你和华科院的专家们，
立刻将‘神农光刻胶Sp-28’核心组分的国产化自主合成与超高纯度提纯工艺，
列为最高优先级的攻关任务！启明芯将向你们提供不设上限的研发经费，
并调动‘伏羲’AI超算平台的所有空余算力，
为你们进行从反应路径优化、催化剂筛选、到分离提纯工艺参数模拟的全流程支持！
我要在半年之内，看到我们自己生产的、纯度达到99.9999%以上的光刻胶核心单体！”
林轩的雷霆手段，再次展现了他那料敌于先、有备无患的战略远见！
那些试图通过原材料封锁来扼杀国产光刻胶的国际巨头们，很快就惊恐地发现，
启明芯这条泥鳅，滑不留手，总能在他们布下的天罗地网中，找到意想不到的生路！
第二道难关：中试生产线的“魔鬼工艺”！
在林轩的强力推动和国家大基金的鼎力支持下，
一座专门用于高端光刻胶中试生产与工艺验证的、
拥有世界一流设备和超高洁净度生产环境的神农光刻材料中试基地，
以惊人的启明芯速度，在华夏东部浙城沿海化工产业园区，拔地而起！
然而，将实验室的克级配方，放大到中试产线的“公斤级”甚至“百公斤级”生产，
其间需要克服的工程技术难题，远超所有人的想象！
光刻胶的生产，对环境的洁净度、温度、湿度、甚至光照条件，
都有着近乎变态的严苛要求。任何一点微小的污染或工艺参数波动，
都可能导致整批产品的报废。
“这哪里是生产光刻胶，这分明是在用绣花针雕刻原子弹啊！”
一位从中试基地被“折磨”得几乎脱了一层皮的年轻工程师，私下里如此吐槽。
但顾维钧和他带领的“中试突击队”，却展现出了“铁军”般的意志和智慧。
他们与“伏羲”AI团队紧密配合，将中试产线的每一个反应釜、
每一根管道、每一个过滤器、每一台检测仪器，都连接到AI的神经网络之中。
“伏羲”AI如同一个拥有“千里眼”和“顺风耳”的“超级工段长”，
实时监控着生产过程中的每一个细微变化，一旦发现任何潜在的风险或异常，便会立刻发出预警，并给出针对性的调整建议。
经过数个月艰苦卓绝的“人机协同”鏖战，在报废了数十批、价值数千万人民币的实验样品之后，
“神农光刻胶Sp-28”的工业化生产工艺流程，终于被成功打通！
其批次稳定性、核心性能指标、以及最重要的——生产成本，都达到了可以接受的商业化水平！
第三道，也是最严苛的难关：晶圆厂产线验证的“生死状”！
公元2013年仲夏，第一批由“神农光刻材料中试基地”稳定生产出来的、质量完全达标的“神农光刻胶Sp-28”工业级样品，
在启明芯特种安保团队的全程押运下，如同最重要的“战略核武器”一般，被秘密送往了庐州“神农1号”超级晶圆厂，
以及启明芯在深川的中央研究院最先进的12英寸工艺研发线！
它们，即将在这里，接受最严酷、也最公正的“生死考验”！
林轩亲自坐镇深川，与坂本健一、孙振南、顾维钧、李志远等核心技术巨头一起，
共同组织和指挥了这场针对“神农光刻胶Sp-28”的、堪称集团军级别的产线验证大会战！
测试的目标，不仅仅是28纳米，更是直接瞄准了启明芯下一代“天枢三号”Soc芯片中，那些对线宽控制、图形保真度和缺陷密度要求最为变态的
14纳米甚至10纳米（关键逻辑层和高密度互联层！
最初的几次上线试流片，结果并不尽如人意。
虽然神农光刻胶Sp-28在实验室的28纳米图形验证中表现完美，
但在真实的、高强度、快节奏的12英寸晶圆厂大规模生产环境下，
在与各种不同型号的光刻机、不同的涂胶显影设备、不同的刻蚀工艺流程进行匹配时，
还是暴露出了诸如与特定底层抗反射膜的兼容性不佳、显影后的图形侧壁陡峭度略有不足、以及在某些极端曝光条件下容易产生“微桥连”或“断线”等细微的工艺缺陷。
每一次失败，都意味着巨额的研发投入付诸东流。
实验室内的气氛，也一度因此而变得有些压抑和焦灼。
但林轩的脸上，却始终保持着一种近乎“冷酷”的平静。
他知道，这，正是国产核心材料从“实验室”走向“战场”的必经之路！
没有任何捷径可走！唯有——正视问题，解决问题，不断迭代，不断超越！
“伏羲！启动最高级别‘光刻工艺缺陷根源智能诊断与配方反向优化’算法！”
林轩直接向AI平台下达了指令！
在接下来的数周时间内，“伏羲”AI超算集群几乎火力全开！
它将每一次失败晶圆的数百万个缺陷数据点、对应的光刻胶批次所有微量化学组分参数、
以及产线上数百个光刻与刻蚀工艺步骤的所有实时环境与设备数据，
进行前所未有的、超高维度的深度关联分析和多目标优化建模！
在“伏羲”AI那近乎“上帝视角”般的精准指引下，顾维钧和他带领的光刻胶研发团队，
如同最精湛的外科医生，对“神农光刻胶Sp-28”的配方，又进行了十余次针对性的、细致入微的“微创手术”式优化调整。
终于，在一个注定要被载入华夏半导体史册的、风雨交加的夜晚！
当最新一批采用“神农光刻胶Sp-28 V10.8终极优化版”的“天枢三号”14纳米关键层测试晶圆，在经历了完整的曝光、刻蚀、清洗等所有工序后，
被送入最先进的扫描电子显微镜（SEm）和关键尺寸扫描电镜（cd-SEm）进行检测时——
屏幕上，呈现出的，是教科书般完美的、线宽精准控制在14纳米、
侧壁陡峭度接近90度、线边缘粗糙度（LER）小于1.5纳米、
且在整个12英寸晶圆范围内几乎零缺陷的——纳米级电路森林！
其各项核心性能指标，不仅全面达到了、甚至在某些关键参数上
显着超越了之前启明芯高价从东瀛JSR和信越化学进口的、作为对照基准的、最顶级的商用ArF浸没式光刻胶！
当这份凝聚了无数人心血与智慧的、堪称“奇迹”的测试报告，
摆在林轩、顾维钧、坂本健一、孙振南等所有核心决策者面前时，整个“星图室”内，爆发出了一阵经久不息的、雷鸣般的掌声！
顾维钧这位年过半百、一向以沉稳内敛着称的老将，此刻也再也无法抑制内心的激动，虎目含泪，声音哽咽！
国产高端光刻胶，在经历了无数次“生死考验”之后，终于……凤凰涅盘，浴火重生！
“星尘补天计划”的“一号工程”，取得了决定性的、伟大的胜利！